鉬靶的製備方法及應用介紹

鉬靶的製備通常通過將鉬金屬熔化並鑄造成所需形狀來完成。 熔融的鉬然後在真空爐或其他受控環境中冷卻和固化。 然後將目標加工成所需的形狀、尺寸和表面光潔度。

鉬靶特性
鉬靶形狀：平面靶、旋轉靶、异形定制
鉬靶純度：3N5
鉬靶尺寸：根據圖紙加工或定制
我們還可以提供鉬絲、鉬片、鉬棒、鉬顆粒、鉬塊、鉬坩堝、鉬製品、鉬緊固件等。

鉬靶製備工藝
1.鉬粉的純度大於或等於99.95%。 採用熱壓燒結工藝將鉬粉緻密化，將鉬粉放入模具中； 將模具放入熱壓燒結爐後，對熱壓燒結爐抽真空； 將熱壓燒結爐溫度調至1200-1500℃，壓力大於20MPa，保溫加壓2~5h； 形成所述第一鉬靶坯料；
2.對第一塊鉬靶坯進行熱軋處理，將第一塊鉬靶坯加熱至1200-1500°C，然後進行軋製處理，形成第二塊鉬靶毛坯；
3.在熱軋處理之後，對第二鉬靶坯料進行退火。 退火方法是將溫度調節到800-1200°C，並將第二個鉬靶坯料加熱2-5小時以形成鉬靶。

該方法解决了鉬靶雜質含量高、織構分佈不均勻的問題。 用這種方法製備的鉬靶具有更高的純度和密度，靶織構分佈更均勻，並能形成特定的晶體取向，鉬靶的濺射效能更好。

鉬靶的應用
鉬濺射靶可以在襯底上形成薄膜，廣泛應用於電子元器件和電子產品、集成電路、資訊存儲、液晶顯示器、鐳射記憶體、電子控制設備； 它們也可以用於玻璃塗層領域； 用於耐磨材料、高溫腐蝕、裝潢製品等行業。

鉬的其他應用
鉬資料主要應用於真空高溫工業、電子工業、藍寶石熱場和航空航太製造業等。鉬資料經軋製加工變形超過60%後，其密度基本接近理論密度，囙此具有强度高、內部結構均勻和優异的耐高溫蠕變效能，廣泛應用於藍寶石晶體生長爐反射屏、蓋板真空爐反射屏的生產、加熱帶、連接器、电浆鍍膜濺射靶材、耐高溫船等產品。

鉬靶合金類型

除了鉬靶，我們還可以提供鉬-鈦-alloy.html>鈦合金s、鉬錸合金、鉬鈮合金、鉬銅合金、鉬鑭合金、鉬鉭合金等靶材。